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平面鏡面拋光劃痕消除技術(shù)

發(fā)布人：技術(shù)部 2025-05-21 08:54:52

劃痕殘留與拋光液粒徑及壓力控制直接相關(guān)。迪倫特設(shè)備推薦使用30nm二氧化硅拋光液（pH=7.2±0.5），配合六軸機(jī)械臂的力控模塊（精度0.1N）進(jìn)行多角度拋光。對于304不銹鋼平面件，建議采用三級拋光程序：粗拋（1200目砂帶，壓力0.5MPa）→精拋（納米液，壓力0.2MPa）→光整（無紡布輪，壓力0.05MPa），可實現(xiàn)Ra≤0.05μm。